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米台韓の先進半導体メーカー4社(Intel、TSMC、Samsung Electronics、Globalfoundries)が参画し、ニューヨーク州・ニューヨーク州立大学が主導する米国の450mm大口径化推進コンソーシアム「Global 450mm Consortiam(G450C)」には、すでに450mm対応の製造装置が、ニコンのArF露光装置を含め50数台搬入され、300mm装置の性能を上回る評価結果が続々と出てきています。しかし、ノッチレス化や周辺1.5mm除外など新たな450mmウェーハ規格の標準化も着々と整ってきています。欧州では、数々の450mm化推進プロジェクトが進行しており、ベルギーimecは450mmR&Dパイロットラインを現在工事中です。中東でもイスラエルが450mm計測装置開発国家プロジェクト「Metro450」を推進中です。Intel のPCモバイル向けビジネス不振で、450mm工場の実現は計画よりやや遅れる可能性はありますが、現在、450mm化への産官学を挙げた取り組みが粛々と継続していることから、450mm化の大きな流れは少々の障害でストップすることはないでしょう。半導体装置/部材メーカーにとっては、こうした450mm化の最新動向についての情報収集を怠らず、近い将来のビジネスチャンスを掴むことが重要です。
本セミナーでは、Hattori Consulting International代表の服部毅氏が、欧米現地取材に基づいて、450mm化の最新動向をグローバルな視点で分かりやすく、かつ詳細に解説します。G450Cは今年から450mmデータの一般公開はしなくなり、今度のSEMICON JAPANでも発表されませんが、本セミナーでは、講師が独自に入手した最新情報をお伝えします。
1.激動する世界半導体産業の最新動向
2.450mm大口径化のいきさつと意義
1.ニューヨーク州立大学+世界先進半導体メーカー5社によるG450Cの設立から今日まで
2.ついに公表され始めた300mmより良好な450mm装置評価結果
3.Intelなどデバイスメーカーの450mm大口径化の最新状況
4.Applied Materialsなど装置メーカーの450mm装置開発状況
5.着々と準備される450mmSEMI規格の開発状況と450mmウェーハのノッチレス化・周辺1.5mm除外
③G450Cの450mm装置評価・プロセス開発の最新動向
1.ニコンの450mmArF液浸漬露光装置によるパターニング
2.各プロセス装置評価・プロセス開発状況
3.今夏、セミコンウエストで展示されたCu/low-kダマシンパターン付き450mm BEOLウェーハ
4.今夏、米国真空学会で報告されたCMP装置評価結果
5.2017年に向けた今後の計画