電子デバイス産業新聞(旧半導体産業新聞)
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2026/10/29(2725号)主なヘッドライン
光電融合、本格量産段階へ移行
300mmSiPhの投資活況、次世代PF巡り主導権争い

GFの300mmSiPh対応拠点のマルタ工場「Fab8」
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 AIデータセンター(DC)の拡張と光電融合パッケージの導入加速を見据え、300mmシリコンフォトニクス(SiPh)への投資が活発化している。技術的には、300mm化によって液浸ArF露光装置の導入が図れ、導波路の側壁の微細な凹凸(ラフネス)が大幅に低減されるなど、光損失の少ない高性能PIC(Photonic IC)を安定して製造できる環境が整ったことも背景として挙げられる。光電融合向けPICは、量産供給のフェーズに入るとともに、単なる量産競争からレーザー集積やCPO(Co-Packaged Optics)の実現に向けた光電融合プラットフォーム(PF)競争へと軸足を移しつつある。各社の動向を追った。
(以下、本紙2026年10月29日号1面)




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